發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣(qì):225244
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再用石灰(huī)粉再生(shēng)脫硫液,由於整(zhěng)個反(fǎn)應過程是液氣相之間進行,避免了係(xì)統結垢問(wèn)題,而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等(děng)的脫(tuō)硫。
一、工藝特點
1、以(yǐ)NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富(fù),投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶(róng)液,在循環過程中緩解水(shuǐ)泵、管道、設備腐蝕(shí)、衝刷及堵塞,便於設備運行和維護(hù)。
2、鈉基吸收液對SO2反(fǎn)應(yīng)速度快,故有較小的液(yè)氣比,達到較(jiào)高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫(tuō)硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱(diàn)均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性(xìng)高,事故發(fā)生(shēng)率小(xiǎo),塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工(gōng)藝介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉(nà)基脫硫(liú)劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石(shí)灰)攪拌均(jun1)勻後做(zuò)成溶(róng)液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後(hòu)與含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經(jīng)脫硫劑再(zài)生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工藝原理
含(hán)硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入噴(pēn)淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿著由霧化(huà)器噴出的粒徑為(wéi)100~300μm的霧化液滴,煙氣(qì)中SO2與吸收堿液再次反應,脫除(chú)90%以上的二氧化(huà)硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時定期排入脫硫塔後(hòu)設置的收集係統,適當補充一定量的堿液後,經循環泵再次送入噴霧和(hé)配液係統中被再(zài)次利用,脫硫劑一直處(chù)於循環狀態。
經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計(jì)的(de)特殊性,經脫硫後的煙(yān)氣通過塔(tǎ)頂除霧器時,將煙(yān)氣中的液滴分離出來,達到同時除塵除霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣(qì)經煙道(dào)引風機直接進(jìn)入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速(sù)小(4.0m/s),塔(tǎ)壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵(chén)、脫硫、排煙氣於一體,煙(yān)氣升至(zhì)塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出(chū)現故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣進入脫硫塔向上升起,與(yǔ)向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔(tǎ)噴淋,將溶劑霧(wù)化無數液滴,讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液(yè)相接觸(chù)麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫(tuō)硫液排出塔外進(jìn)入再生池與Ca(OH) 2反應(yīng),再生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環(huán)脫硫泵打入脫(tuō)硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除霧器,經除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。
3、脫(tuō)硫產物處理
脫硫產物是石膏(gāo)漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被(bèi)氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池(chí)排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉(chén)澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃(nóng)提(tí)固後,再排至渣場處理。
4、關於二次(cì)汙染(rǎn)的解決
雙堿(jiǎn)法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再(zài)生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶(dài)入石膏漿液(yè)中,經固(gù)液分離(lí),分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用,因此不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸(xī)收速率大,脫硫效率高,同時PH值高,結垢幾率小(xiǎo),避免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立(lì)的不變因素(sù),取決(jué)於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要(yào)求石(shí)灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內(nèi)。
液漿濃度:控製在10~15%。