發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:224985
雙(shuāng)堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行(háng)煙氣脫硫,然後再用石灰(huī)粉再(zài)生脫硫液,由於整個反應(yīng)過程是液氣相之間進行(háng),避免了係統(tǒng)結垢問題,而且脫硫速率高、液氣比(bǐ)小、吸收(shōu)劑利用率高、投資費(fèi)用(yòng)省、運行成本(běn)低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以(yǐ)NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資(zī)源豐富,投資成本低;脫(tuō)硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中(zhōng)緩解水泵、管(guǎn)道、設備腐(fǔ)蝕、衝刷及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有較小的液氣比,達到較高的脫硫(liú)效率,一般≥90%。
3、脫(tuō)硫劑可被循(xún)環使用,它的再(zài)生及脫(tuō)硫沉澱均發生於(yú)塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性高(gāo),事故發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工(gōng)藝介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻(yún)後做成溶液打入脫硫塔,該堿(jiǎn)性溶液霧化(huà)後與(yǔ)含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用(yòng)。
2、工藝原理
含硫煙氣經除(chú)塵(chén)後,由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋(lín)塔內設置霧化係統,在該區(qū)段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑(jìng)為100~300μm的霧化液滴,煙(yān)氣中SO2與(yǔ)吸(xī)收堿(jiǎn)液再次反應,脫除90%以(yǐ)上的二氧化(huà)硫(liú)。
脫硫後的液體(tǐ)落入脫硫塔底部,定時定期排入脫硫(liú)塔後設置的收集係統,適當補充一定量(liàng)的堿液後,經循環泵(bèng)再次送入噴霧和配液係統中被再次利用,脫硫劑一直處於循環狀態。
經多次循環後的脫硫漿液排入(rù)後處理係統。由於設計的特殊性,經脫硫後的煙氣通過(guò)塔頂除霧器時,將煙氣中的液滴分離出來,達到同時除塵除(chú)霧(wù)的效果,潔淨煙氣終達(dá)標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直接(jiē)進入脫硫塔,脫(tuō)硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除(chú)塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進入煙囪(cōng)排入大氣。當(dāng)脫硫泵出現故障時,脫硫暫停反(fǎn)應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣進入脫硫(liú)塔向上升起,與向下噴淋的脫硫(liú)塔(tǎ)以逆流式洗滌,脫硫(liú)塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接觸吸收SO2。氣(qì)液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越高。
脫(tuō)硫塔內堿液霧化(huà)吸收SO2及粉塵(chén),生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生(shēng)池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離子並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除霧器,經除霧器折流板碰衝(chōng)作用,煙氣(qì)攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。
3、脫硫產物處理
脫硫(liú)產物是(shì)石(shí)膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵(chén)。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於(yú)石膏漿(jiāng)中含有固體雜質,影響石膏的質量,所以一(yī)般以拋棄法(fǎ)為高。排出沉澱池漿液(yè)可經水力旋流器,稠厚器增濃提固後,再排至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體(tǐ)殘渣進行回收堆放再做他用。溶液(yè)流回再生(shēng)池繼續使用,因此不會產生(shēng)二次汙染。
5、吸收SO2效(xiào)率及主要(yào)影響因(yīn)素
PH值:PH值高,SO2吸收速率(lǜ)大,脫硫效(xiào)率高,同時PH值高(gāo),結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液(yè)傳質,溶解SO2,但溫度低影響反應速(sù)度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不(bú)變因素(sù),取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要求石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。